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技術文章

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  • 20258-11
    電子束光刻:納米制造領域的 “隱形引擎”

    一為什么EUV離不開EBL?很多人會疑惑:既然EUV已經能高效量產先進芯片,為什么還要投入精力研發電子束光刻?答案藏在兩者的“分工”里。EUV追求的是“批量生產的經濟性”,就像印刷廠的大型設備,能快速復制已有的設計;而EBL解決的是“從0到1的可行性”,如同作家的鋼筆,負責創造全新的“故事”沒有EBL,EUV的掩模版無從談起——這種高精度的“模具”是芯片量產的基礎,必須依靠電子束光刻的納米級分辨率(可達2nm)來制作。更重要的是,在3nm以下制程研發、量子計算、二維材料等前沿...

  • 20258-6
    白光干涉共聚焦顯微鏡是洞察微觀世界的精密之眼

    在科技日新月異的今天,白光干涉共聚焦顯微鏡作為光學顯微技術領域的一顆璀璨明珠,正以其特殊的成像原理和杰出的性能,推動著微觀世界探索的新風潮。它不僅極大地提升了我們對材料表面形貌、薄膜厚度、粗糙度等微觀特性的認知能力,還在半導體、生物醫學、材料科學等多個領域展現出廣泛的應用潛力。白光干涉共聚焦顯微鏡的核心優勢在于其結合了白光干涉與共聚焦掃描兩大技術。白光干涉技術利用光波的干涉原理,通過測量樣品表面反射光與參考光之間的光程差,精確重構出樣品表面的三維形貌。這種技術具有非接觸、無損...

  • 20258-5
    澤攸科技 ZEM 系列臺式掃描電鏡:解碼微橡膠污染的微觀利器

    為什么微觀觀察是污染研究的“第一道門”?微橡膠顆粒的環境危害,與其微觀形貌、表面特性、粒徑分布密切相關:粗糙的表面更容易吸附重金屬和有機污染物,細小的粒徑則能穿透生物屏障進入細胞。但這些顆粒直徑多在1-500微米之間,遠超光學顯微鏡的分辨極限,傳統檢測手段難以捕捉關鍵細節。澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡的出現,為研究者打開了微觀觀察的“快速通道”。無需復雜樣品制備,即可實現納米級分辨率成像,讓微橡膠顆粒的真實面貌清晰呈現——這正是青島科技大學等團隊在TWP與LAP毒性對比研究...

  • 20257-29
    澤攸ZEM 系列臺式電鏡助力“光纖集成石墨烯超快電子源”

    在科研領域,顯微鏡就像科學家的“火眼金睛”,幫我們看清微觀世界的奧秘。而電子源,就是這雙眼睛的“光源”,其性能直接決定了觀測的精度和效率。最近,由北京大學等團隊聯合研發的“光纖集成石墨烯超快電子源”登上了《NatureCommunications》,用創新設計打破了傳統電子源的諸多限制,而澤攸科技的ZEM系列臺式掃描電鏡,更是為這項研究提供了關鍵助力傳統電子源的“老大難”:效率低還“嬌氣”提到電子源,你可能會覺得陌生,但它卻是真空電子技術的核心。無論是高精度的時間分辨成像,還...

  • 20257-27
    澤攸SEM/TEM原位分析微觀動態世界的實時探針

    在納米材料研發、先進儲能器件優化及半導體制造等領域,材料在服役環境中的動態行為研究至關重要。北京儀光憑借澤攸SEM/TEM原位分析系統,突破了傳統靜態表征的局限,為科學家提供了實時觀測材料微觀結構演變的“納米級顯微鏡”,成為推動材料科學突破的關鍵工具。1.原位SEM:動態形變與失效機制的“現場直播”ZEM系列臺式掃描電鏡搭載的原位拉伸/壓縮模塊,可在真空或可控氣氛環境中對金屬、陶瓷、高分子材料進行納米級精度的力學加載。例如,在鋰離子電池隔膜研究中,通過原位SEM可實時觀察隔膜...

  • 20257-24
    應用案例|微型 BUMPS 測量難題?SENSOFAR 3D 光學輪廓儀來解決!

    在現代電子設備中,有一群“隱形功臣”——微型BUMPS。它們是集成電路里的核心連接器,負責實現堆疊管芯或中介層之間的電氣和機械連接,手機、平板、電腦等設備能高效運轉,可離不開它們的功勞。01高精度測量,全面分析使用50倍干涉鏡頭,Sneox能對微型BUMPS進行三維輪廓測量,在高分辨率下全面分析,驗證其高度、直徑和平整度,有效防止粘合失敗并優化電氣性能。更厲害的是,僅需3秒就能分析所有測量數據,大大提高了效率。02性能,優勢盡顯速度驚人:采用新的智能算法以及新型相機,數據采集...

  • 20257-22
    產品推薦|SensoFIVE:五軸動態測量的革新者

    在傳統測量領域,復雜工件的檢測往往面臨效率低、操作繁瑣、動態呈現不足等痛點。而SensoFIVE的出現,正以其特別的五軸動態實時呈現技術,為這一領域帶來不一樣性的變革。傳統測量常受困于操作復雜、動態呈現不足,而SensoFIVE的出現打破了這一局面。,時長02:54它與Sneox五軸系統無縫協作,三維查看器能實時展現五軸運動細節,旋轉角度、高度調整皆直觀可見,讓測量從抽象變具象。放置樣本到平面托盤,3D查看器可快速還原其形狀;借助旋轉支架測量圓柱體時,實時反饋讓操作更便捷,大...

  • 20257-22
    Sensofar白光干涉共聚焦顯微鏡的應用場景與實際應用價值

    一、Sensofar白光干涉共聚焦顯微鏡核心應用場景半導體制造與微電子檢測晶圓表面形貌測量:精確檢測晶圓表面粗糙度(Ra關鍵尺寸(CD)表征:利用共聚焦模式捕捉光刻膠結構的側壁粗糙度(Sa封裝缺陷檢測:檢測芯片與基板貼合平整度,發現空洞、翹曲等問題,保障電子封裝電氣性能。例如,在動力電池模組封裝中,通過30片/分鐘的高速檢測識別0.2μm涂層不均缺陷,年節省探針刮傷導致的報廢成本超280萬元。精密零部件與模具制造表面粗糙度評估:測量發動機葉片、精密齒輪等高精度零部件的表面形貌...

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