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澤攸臺式掃描電鏡成像性能與參數表現解析

產品簡介

澤攸臺式掃描電鏡成像性能與參數表現解析
掃描電子顯微鏡的核心價值在于成像能力,ZEM20在分辨率、放大倍數及成像適應性上進行了針對性優化。本文結合其技術參數與實際測試數據,解析其性能表現。

產品型號:ZEM20
更新時間:2025-10-23
廠商性質:代理商
訪問量:75
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澤攸臺式掃描電鏡成像性能與參數表現解析

掃描電子顯微鏡的核心價值在于成像能力,ZEM20在分辨率、放大倍數及成像適應性上進行了針對性優化。本文結合其技術參數與實際測試數據,解析其性能表現。
分辨率是衡量SEM的關鍵指標。ZEM20在高真空模式下,加速電壓30kV時分辨率可達3nm,1kV時為5nm;低真空模式下,10kV分辨率約8nm。這一表現得益于電磁透鏡的精密設計——物鏡光闌可切換3種尺寸(20μm、50μm、100μm),配合消像散器自動校正,有效抑制色差與球差,提升邊緣銳度。測試中,對304不銹鋼斷口的觀察顯示,晶界與滑移線清晰可辨,滿足材料微觀結構分析需求。
放大倍數范圍覆蓋10×至100,000×,其中1,000×-50,000×為常用區間。設備支持連續變倍,通過電機驅動物鏡光闌與透鏡電流聯動實現,切換過程平滑無跳焦。對于大尺寸樣品(如半導體封裝芯片),低倍模式可快速定位區域,再逐步放大至高倍觀察細節,提升檢測效率。
成像模式多樣化。除常規SE二次電子像外,BSE背散射電子像可反映樣品成分差異——例如,檢測鋁合金中的Si相分布時,BSE圖像中Si顆粒呈亮白色,與基體形成鮮明對比。此外,ZEM20支持低真空模式下的“環境掃描",可直接觀察未噴金的環氧樹脂包埋生物樣品(如果蠅觸角),表面形貌與部分化學信息(如未染色的幾丁質結構)同時呈現。
參數調節靈活性是另一優勢。加速電壓可在1kV-30kV間以100V步進調節,低電壓減少對樣品的損傷(適用于有機材料),高電壓增強信號穿透深度(適用于厚涂層樣品)。工作距離(WD)調節范圍為5mm-15mm,短WD(5mm)提升分辨率,長WD(15mm)擴大觀察視野,滿足不同場景需求。
參數表關鍵項
  • 加速電壓:1kV-30kV(步進100V)


  • 分辨率:3nm(30kV,SE);8nm(10kV,低真空)


  • 放大倍數:10×-100,000×(連續變倍)


  • 真空模式:高真空(≤10??Pa)、低真空(10Pa-10?1Pa)


  • 探測器:SE(標配)、BSE(選配)


實際測試中,對碳纖維復合材料的檢測顯示,ZEM20能清晰分辨纖維與樹脂基體的界面,且連續拍攝100張圖像(5000×)無明顯漂移,穩定性良好。其性能參數雖非行業頂尖,但通過合理的功能分配與模式適配,在教學、工業檢測及常規科研中展現出較高的實用性。

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