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ZYGO白光干涉儀解鎖微納形貌的工業級光學

產品簡介

ZYGO白光干涉儀解鎖微納形貌的工業級光學
ZYGO白光干涉光學輪廓儀以相干掃描干涉(CSI)技術為核心,通過非接觸式測量實現亞納米級表面形貌分析。其SureScan™抗振技術可在未配備氣浮隔振臺的環境中,將振動對測量的影響降低95%以上,

產品型號:Verifire HDX
更新時間:2025-08-19
廠商性質:代理商
訪問量:18
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核心技術與產品性能

ZYGO白光干涉光學輪廓儀以相干掃描干涉技術為核心,通過非接觸式測量實現亞納米級表面形貌分析。其SureScan抗振技術可在未配備氣浮隔振臺的環境中,將振動對測量的影響降低95%以上,確保垂直分辨率穩定在0.1nm至0.15nm區間。設備支持從2.5×到100×的多倍率物鏡切換,搭配1024×1024像素CMOS傳感器,可在5-15秒內完成單次掃描,橫向采樣密度達0.17μm/點,滿足從微米級宏觀結構到納米級微觀缺陷的全尺度檢測需求。ZYGO白光干涉儀解鎖微納形貌的工業級光學

材質與工藝設計

  • 光學系統:采用長壽命白光LED光源(壽命>50,000小時)與高數值孔徑干涉物鏡,配合抗反射鍍膜技術,確保光路穩定性與低散射噪聲。

  • 機械結構:主體框架選用航空級鋁合金,經精密CNC加工與應力釋放處理,搭配分立龍門架構設計,支持通過標準墊塊附件抬升測試頭以檢測超高樣品(最大高度可達300mm)。

  • 軟件平臺:基于Windows系統的Mx™軟件提供交互式3D繪圖、量化形貌分析、SPC統計質量控制及自動化腳本編程功能,支持ISO 25178標準下的200余種表面參數輸出。

型號對比與參數表

型號ZeGage™ ProNewView™ 9000NexView™ NX2
表面形貌重復性≤0.35nm(1σ)≤0.08nm(1σ)≤0.06nm(1σ)
縱向掃描范圍0-150μm0-150μm(壓電陶瓷閉環控制)0-150μm(壓電陶瓷閉環控制)
樣品臺配置手動XY平移(50×100mm)可選5軸自動調整(Z/XY/Tip-Tilt)標配5軸自動調整(Z/XY/Tip-Tilt)
典型應用場景精密機械表面粗糙度檢測半導體晶圓減薄工藝分析光學鍍膜超光滑表面量測


應用場景與操作指南

  1. 半導體制造:檢測8英寸晶圓減薄后的表面粗糙度與鐳射槽深寬比。

    • 操作步驟:將晶圓固定于真空吸附盤→選擇20×物鏡→啟動SureScan™模式→通過Mx™軟件自動拼接測量直徑φ200mm區域。

  2. 光學鍍膜分析:測量AR鍍膜厚度均勻性與界面粗糙度。

    • 操作步驟:切換至透明膜測量模式→調整光源波長至550nm→通過反射率曲線擬合計算膜厚。

  3. MEMS器件檢測:評估微結構側壁垂直度)與表面缺陷尺寸。

    • 操作步驟:使用45°傾斜照明模塊→設置閾值分割參數→自動識別劃痕/顆粒缺陷。

用戶價值體現

ZYGO白光干涉儀通過模塊化設計實現“一機多用"。例如,在太陽能電池檢測中,NewView™ 9000可同步完成絨面金字塔結構尺寸分析與柵線電度測量,單臺設備替代傳統三臺儀器,降低實驗室空間占用與維護成本超40%。其SureScan™技術更使設備可直接部署于生產車間,無需改造環境,投資回報周期縮短至12個月內。

ZYGO白光干涉儀解鎖微納形貌的工業級光學

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